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Eintrag

Kategorie:
Electron-beam lithography

Art des Gerätes:
Sonstiges/Other

Bezeichnung der übergeordneten Forschungsinfrastruktur (optional):
Sonstiges/Other

Zusätzliche Methoden und Synergien mit anderen Geräten (optional):

Identifikationsnummer (optional):
sonstiges-other-19

Kurze Beschreibung des Gerätes (maximal 5000 Zeichen):
"Elektron-beam lithography system. Field emitter, max. 30 kV, variable size of write field, positive and negative resists, min. feature size 10 nm."

Hersteller:
RAITH

Jahr des Erwerbs (optional):

Modell:
RAITH150 Two

Notwendige / einschränkende Rahmenbedingungen für den Einsatz (optional):
samples / Material category A, B

Nutzergruppen:
Internals and externals

Art der Nutzung:
Operator

Fakultät:

• Faculty 6 – Electrical Engineering and Information Technology

Fachgruppe / Lehreinheit (optional):

Institutskennziffer (IKZ):
ZMNT – Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology

Website (optional)

Adresse (optional):
"Rotation Building --> ZMNT, module 2"

Ansprechpartner*in:
Dr.-Ing. Birger Berghoff

E-Mailadresse (optional):