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Eintrag

Kategorie:
Thermal etching

Art des Gerätes:
Sonstiges/Other

Bezeichnung der übergeordneten Forschungsinfrastruktur (optional):
Sonstiges/Other

Zusätzliche Methoden und Synergien mit anderen Geräten (optional):

Identifikationsnummer (optional):
sonstiges-other-63

Kurze Beschreibung des Gerätes (maximal 5000 Zeichen):
"Rapid thermal processing (RTP) furnace for hydrogen etching and hydrogen surface smoothing of Si. Temperature: 300 - 1450 °C. Pressure: 5-1000 mbar. Same tool as for rapid thermal oxidation (RTO)."

Hersteller:
Annealsys

Jahr des Erwerbs (optional):

Modell:
AS-One 150

Notwendige / einschränkende Rahmenbedingungen für den Einsatz (optional):
samples / Material category A

Nutzergruppen:
Internals and externals

Art der Nutzung:
Operator

Fakultät:

• Faculty 6 – Electrical Engineering and Information Technology

Fachgruppe / Lehreinheit (optional):

Institutskennziffer (IKZ):
ZMNT – Central Laboratory for Micro- and Nanotechnology

Website (optional)

Adresse (optional):
Rotation Building, Building No. 4242, Room 24B101

Ansprechpartner*in:
Dr.-Ing. Birger Berghoff

E-Mailadresse (optional):